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高岭土插层效果表征

时间:2014-05-08 09:50:19

作者:世邦机器

高岭土插层效果表征

用X射线粉晶衍射、红外光谱、热分析和核磁共振可以对高岭石/有机插层复合物的性能进行表征。通过对这些数据的分析,可以确定高岭石/有机插层复合物的层间距、插层率、热稳定性和分子结构。

(1)X射线粉晶衍射:有机分子插入高岭土加工工艺的的层间,对高岭石的层间距会产生或多或少的影响,因此,XRD是检测有机分子是否插入高岭石层间的较好方法之一。通过对比有机小分子插入前后,高岭石层间距的大小,就可以知道有机分子是否插入高岭石的层间。高岭石的层间距(strongasal spacing)为0.716nm,其层间域(interlayer spacing)为0.292nm。当有机分子插入高岭石的层间域后,使用先进的高岭土加工技术,引起层间域的膨胀,其层间距也相应地增加,XRD的办d001值可以直接反映出这种变化。插层复合物形成后,而d001=0.716nm的衍射峰变弱,而随着插层物的不同代之以不同层间距的衍射峰。因此层间距变化是评价有机分子是否插入高岭石层间的较直接的方法。

层间距的变化可以用于判断有机分子是否插入高岭石的层间,但却不能表明插层作用的完全程度。瞿金蓉等(2003)利用X射线粉晶衍射和激光拉曼光谱实验分析高岭石及其乙酸钾插层物的结构。从高岭石/乙酸钾插层复合物的X射线粉晶衍射分析可以清楚地看到,乙酸钾已成功地插入高岭石层间,使得高岭石的d001由0.720nm增加到1.420nm,其插层率可达73%。

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